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硅片缺陷觀測儀

硅片缺陷觀測儀(HS-WDI)

產(chǎn)品介紹:

硅片缺陷觀測儀(HS-WDI),于對硅片的缺陷進(jìn)行觀察,效果非常明顯,包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。

實(shí)時(shí)對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備,能更好的觀測和保存研究結(jié)果;



硅片缺陷觀測儀-產(chǎn)品特點(diǎn)

適用于對硅片的缺陷觀察效果,非常明顯,包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等;
使硅片缺陷觀察工作簡單化,準(zhǔn)確化,同時(shí)極大程度降低此項(xiàng)工作強(qiáng)度;
實(shí)時(shí)對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備,能更好的觀測和保存研究結(jié)果;
使用 1/2"CMOS 感光芯片,具有體積小,技術(shù)先進(jìn),像素較高, 成像清晰 、線條細(xì)膩、色彩豐富;
傳輸接口為 USB2.0 高速接口, 軟件模塊化設(shè)計(jì) ;
有效分辨率為 200 萬像素;
所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統(tǒng)。



硅片缺陷觀測儀-實(shí)際觀察效果

硅片放大100倍效果
硅片放大效果100倍

硅片放大200倍效果 硅片放大200倍效果 硅片放大效果200倍

硅片放大400倍效果
硅片放大效果400倍



硅片缺陷觀測儀-推薦工作條件

溫度:23±2℃
濕度:60%~70%
無強(qiáng)磁場、不與高頻設(shè)備鄰近



典型用戶

浙江昱輝、江西塞維LDK、常州天合等